隨著現(xiàn)代微電子工業(yè)的不斷發(fā)展，市場對高純度氣體氖的純度要求越來越高，達到了99.999％。目前，國內氖氣標準僅為GB / T“ 17873-1999”“純氖氣”，最高氖氣純度為99.995％。世界上還沒有統(tǒng)一的高純度霓虹燈標準，但是一些大型外國公司，例如美國的API和德國的Messer，都有自己的技術指標。在工業(yè)上，液態(tài)氖氣冷凝法用于分離高純度氖氣，但是由于氖氣和氦氣的沸點非常接近，它們分別為-245.9和-268.9°C。氖氣的沸點低于氮氣的沸點，因此產生的氖氣將含有微量的氦。由于兩者的物理和化學性質相似，因此在工業(yè)生產中已檢測到高純氣體氖氣中痕量氦的分析。困難。針對這些問題，有必要探索一種新的檢測方法來測定氖氣中痕量氦[2-7]。在本研究中，使用氖氣作為氣體，并使用一系列標準氣體作為樣品繪制回歸曲線，直線的截距值為載氣中的氦氣量。高純氣體氖實驗儀器和樣品參考物質實驗選擇了GC-122氣相色譜儀，上海儀器分析總廠，熱導檢測器（TCD），色譜工作站，N2000，浙江大學智能信息工程學院。色譜柱使用直徑為3mm，長度為3m的5A分子篩和六通進樣閥。 Shimadzu的GC-14B和GC-14C氣相色譜儀，N3000色譜工作站。氣體分離的原理是：由于性質不同，氣態(tài)物質分子在色譜柱分子篩上的吸附-解吸能力也不同。隨著在色譜柱上的連續(xù)操作，柱中氣態(tài)分子的移動距離逐漸變化。最終彼此分離，不同的氣體的保留時間和峰面積由TCD檢測器檢測到。